光电轮廓仪

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纳米科技是21世纪材料技术革命的核心，而纳米测量是纳米技术中重要环节，我校研制的光电轮廓仪是纳米测量的重要仪器之一。该仪器除在计量系统作为传递基准仪外，也可广泛用于材料科学、生物学、化学、微机械学以及半导体工业等领域中的纳米分析测量。

   仪器主要技术指标为：

   测量方法：非接触式、三维、光学相移干涉法

   物镜倍率：40X

   测量范围：0.1×0.1mm

   测量列阵：510×510象素

   最小显示值：0.1nm

   测量表面粗糙度范围：Ra～0.1nm-120nm

   最大可测量台阶和孔深：1100nm

  仪器Ra测量重复性：Ra≤1nm

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