硅单晶碱性抛光液及清洗液

一、 项目简介

“硅单晶碱性抛光液及清洗液”项目,始自七十年代中期,不断对产品研发与升级。FA/O硅单晶碱性抛光液，具有较高的抛光速率，能有效去除衬底表面损伤层，表面微粗糙度较低，可解决衬底片结底不平引起的噪声增加、漏电流增大，实现了表面高完美性，提高了衬底片器件区的可靠性与衬底片良品率。FA/O硅单晶清洗液，采取特有的物理优先吸附，有效去除抛光片表面颗粒物、有机物沾污，清洗后衬底片表面重金属离子降至ppm级，达到了易清洗、高洁净。

二、 项目技术成熟程度

该项目的研发、应用，满足了硅单晶衬底片加工高去除速率、低表面粗糙度、高表面完美性、易清洗、高表面洁净、高可靠性等指标的工业要求。自1994年至今，产品已累积销售一千多吨，性能稳定、质量可靠。

三、 技术指标（包括鉴定、知识产权专利、获奖等情况）

抛光液抛光速率1.2-1.5um/min,粗糙度达A级。清洗剂可达到微电子的需求。

研发的抛光液获国家1983年发明四等奖、1990年发明三等奖、清洗技术获1999年国家三等奖。抛光液、抛光清洗液列为国家级科技成果重点推广计划，列为国家重点新产品。申请专利授权中3项，授权6项。

四、 市场前景（应用领域、市场分析等）

据统计，仅中国（含台湾地区）硅单晶抛光液的年需求额40多亿元。

FA/O硅单晶碱性抛光液，广泛用于硅分立器件、功率器件与集成电路衬底片加工。已多年供应国内华润华晶、洛阳鼎晶、深圳深爱等多家知名企业，被指定唯一用于国家航天神五至神十专用集成电路高可靠衬底抛光片加工，具有广泛的市场应用前景。

FA/O硅单晶清洗液，广泛用于要求易清洗、高洁净的硅衬底片清洗。已被中科晶电信息材料有限公司等多家知名企业应用，市场应用前景广泛。

五、 规模与投资需求（资金需求、场地规模、人员等需求）

年产量5000吨的生产规模投资为约3000万元，需千级以上超净化厂房。可依产能需求调整资金投入。产品生产控制节点少，操作人员需求少，适于自动化生产。

六、 生产设备

低压真空系统、百级超净车间、去离子水系统等。

七、 效益分析

生产工艺与操作简单、成本低、环保性好，效益较高。

八、 合作方式

主要采取合作生产、代理代销，可提供技术支持与培训，或面谈。

九、 项目具体联系人及联系方式（包括电子邮箱）

项目联系人：刘玉岭 

联系电话：022-60204128

Email：liuyl@jingling.com

十、 高清成果图片2-3张